近日在企业成立十八个月之际，半导体设备关键零部件射频和等离子系统供应商上海励兆科技向市场发布了多款射频等离子解决方案新品，包括东海(ES)系列远程等离子源和具备脉冲匹配功能的衡山(Heng)系列全自动射频负载匹配器等等；配合已经量产的具备多级脉冲功能的黄河(YR)系列射频电源，励兆科技为泛半导体行业客户提供一站式射频整体解决方案。

  远程等离子源(RPS)是一种利用电磁耦合原理，产生射频能量把产品内部腔体的气体激发成等离子体的装置，其产生的等离子体可以输入用户真空腔体参与相关工艺反应。远程等离子源独立存在于用户真空腔体之外，它产生的等离子体经过扩散和运输之后以自由基(Radicals)为主参与用户腔体内各种工艺反应。与在用户腔体内直接产生的以离子电子为主的等离子体相比，以自由基为主的等离子体参与工艺反应能减轻离子轰击对工艺对象产生的物理损伤和热负荷，因此远程等离子源很适合需要避免离子轰击及高热负荷的工艺。它通常被用于在真空腔体中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺，也能够适用于对工艺腔体进行分子级清洗。除了半导体相关的应用之外，远程等离子源还可以被大范围的应用到新材料、新能源、环境科学、生物医药等多个领域。

  励兆东海系列远程等离子源产生的等离子体洁净程度高，颗粒污染特别是金属颗粒污染程度极低，满足半导体前道工艺颗粒度标准，本产品产生的等离子体可以直接输入半导体工艺腔体参与晶圆工艺(On-WaferProcess)。

  这次励兆科技发布的东海ES6远程等离子源能支持的工艺气体包括氧气/氮气/氩气/水汽/氢气/氨气等等。在半导体领域根据工艺的需求，它可以被用于晶圆清洁/预处理/去胶/氧化/氮化等领域，可搭配工作的工艺机台包括Etch/Strip/ALD/PVD/RTP/Clean。在半导体之外的领域，依据需求，它可以被用作很多材料表面的清洁/氧化/氮化等等目的。

  东海ES6设计功率为2~6kW，点火及工艺窗口推荐值为0.5~2Torr，1~6SLM，工艺窗口能够准确的通过客户使用场景进行不同程度的扩展。

  射频负载匹配器，是一种用于匹配射频电源和负载之间的阻抗的设备。由于相关半导体工艺中作为负载的等离子体本身为动态负载，为了有效地将能量传输到工艺负载中，射频电源工作时就可通过射频负载匹配器来调整与负载之间的阻抗，达到优化射频系统中能量传输的效率并减小传输损耗的目的。射频负载匹配器的工作原理是通过调整其内部的电气原件如电容电感等来实现阻抗的调整和匹配，这样的一个过程通常根据工艺需求可以是手动，半自动或者全自动的。

  而在先进的半导体刻蚀等工艺中，射频电源常常要具备脉冲甚至多级脉冲功能以建立足够的工艺裕量。对于这类脉冲射频电源的应用和匹配，具备射频脉冲检测和匹配能力的全自动匹配器是市面常见的主流解决方案。目前这个细分市场主要被海外的半导体零部件有突出贡献的公司垄断，国内半导体设备公司也多采用他们的解决方案。

  励兆团队基于自身扎实的半导体工艺背景和强大的射频产品设计能力，从成立之初就瞄准了这块尚处于国产空白的细分市场，经过一年多的研发和反复现场测试，现在正式向半导体设备市场发布衡山(Heng)系列全自动射频负载匹配器产品。Heng系列新产品在功能设计上对标目前海外公司主流产品，具备高匹配精度和快速响应特性，支持脉冲匹配和宽频带等特殊功能。

  为了满足多种半导体工艺需求角度，Heng系列全自动射频负载匹配器能够直接进行多样化的客制化配置，比如为干法去胶(Dry Strip)的配置Π型匹配网络，为PECVD应用配置多频全自动功能，为ALD应用定制的匹配器配合电源扫频功能等等。

  目前半导体工艺中最常用的是13.56MHz3000W以内的射频电源，衡山（Heng）系列全自动匹配器中搭配此射频电源使用的型号为Heng3013，也是衡山（Heng）系列最有代表性的主打产品。基于公司最新开发的匹配算法，一般匹配时间在优化预设值后小于1秒，无预设值的远端匹配时间约2秒以内，脉冲频率范围为10Hz至5KHz。

  目前励兆科技已经开放上述产品与客户间的合作与销售，并欢迎有兴趣的客户浏览公司官网(或与公司直接联系，联系邮箱是/p>

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