我国最牛刻蚀机厂商:3nm在研制5nm已被台积电用于华为芯出产

时间: 2024-01-19 06:59:28 |   作者: 等离子表面处理

  在芯片的制作的完好过程中,有三大要害工序,分别是光刻、刻蚀、堆积。这三大工序在出产的过程中,不断的重复循环,终究制作成为芯片。

  而在这三大要害工序中,要用到三种要害设备,分别是光刻机、刻蚀机、镀膜设备。这三大设备占一切制作设备投入的25%、15%、15%左右,是三种占比最高的设备了,可见这三种设备是多么的重要了。

  现在在光刻机上,国内的技能是较为落后的,ASML现已完成了5nm工艺节点,而国内的水平还在90nm工艺节点上,距离至少是10年以上。

  但在刻蚀机上,国内的技能却是国际抢先的,现在最牛的刻蚀机厂商现已在研制3nm的刻蚀机了,而5nm的刻蚀机现已被台积电用于华为麒麟1020芯片的出产了。

  这家厂商便是中微半导体,2004年由海外归国的尹志尧博士兴办。在兴办这家企业时,尹志尧博士现已是60岁了。而在兴办中微半导体之前,他曾在运用资料任职13年。

  而运用资料是全球第一大半导体设备厂商,在刻蚀范畴是全球最抢先的厂商,而这也是尹志尧博士在运用资料担任的项目之一,所以回国创业时,也挑选了刻蚀设备,并表明曩昔是为他人作嫁衣裳,现在要报效祖国。

  而在兴办公司后,中微半导体先后成功开发和出售了适用于65/45/28/20/14/10/7纳米工艺制程的一系列等离子体刻蚀设备,一向与其时的国际抢先水平同步。

  去年中微就交付了5nm的刻蚀机给台积电验证,并于本年正式用于5nm芯片的出产,现在华为麒麟1020、苹果A14现已在出产之中了,运用的就有中微半导体的刻蚀机了。