IT之家6 月 15 日音讯 今日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称“中微公司”）首台 8 英寸甚高频去耦合反响离子（CCP）刻蚀设备 Primo AD-RIE 200 顺畅付运客户出产线。

  IT之家得悉，Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研制的新一代 8 英寸甚高频去耦合反响离子（CCP）刻蚀设备。根据已被业界广泛认可的 12 英寸 CCP 刻蚀设备的老练工艺与特性，Primo AD-RIE 200 在技术创新和出产功率方面都有了逐渐进步，可以很好的满意不同客户 8 英寸晶圆的加工需求。

  为进步出产功率，Primo AD-RIE 200 刻蚀设备可灵敏装备多达三个双反响台反响腔（即六个反响台）。此外，Primo AD-RIE 200 供给了可晋级至 12 英寸刻蚀设备体系的灵敏解决方案，以完成用户出产线未来或许扩产的需求。

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