产品介绍

  大陆光刻机商场也被ASML独占,Canon、Nikon仅占部分ArF dry、KrF、i-Line商场,上微承当光刻机国产化重担。依据中国国际招标网,从部分产线的订货数量上计算,大陆光刻机商场上ASML商场占有率68%, Canon市占率22%,Nikon为10%,与全球竞赛格式根本共同,其间ArFi和ArF dry光刻机首要收购ASML,而KrF的70%订单和i-Line的53%订单都被ASML占有。分客户看,国内存储厂商的光刻机以ASML为主,辅以佳能的KrF和i-Line光刻设备;华虹无锡、华力二期首要收购ASML光刻机;合肥晶合的光刻机大多数来源于CANON品牌。上微SSX600系列步进扫描投影光刻机可满意IC前道制作90nm、110nm、280nm要害层和非要害层光刻工艺需求,但IC前道光刻机国产化进展慢于IC后道封装光刻机合LED制作的投影光刻机。

  大陆涂胶显影设备商场被TEL独占,国产化率仅为5%。2018年全球涂胶显影设备商场规模约23亿美元,其间东电电子TEL市占率为88%,迪恩士和Semes算计占有10%左右,商场集中度高。依据中国国际招标网计算,TEL在中国大陆的市占率92%,处于肯定独占位置;涂胶显影设备国产化率仅为5%,沈阳芯源承当涂胶显影国产化重担,但芯源的涂胶显影设备尚处于产业化初期,其前道I-line涂胶显影机已在长江存储上线进行工艺验证,可完成用户0.18μm技能节点加工工艺;前道Barc(抗反射层)涂胶设备在已在上海华力上线nm技能节点加工工艺。

  去胶设备国产化率81%,屹唐半导体完成去胶设备国产化。去胶设备作为光刻工艺中的一个环节之一,在半导体设备商场中占比较小,年均商场规模估量4-5亿美元,首要供货商包含PSK、Lam Research、日立高科技、屹唐半导体、爱发科等,前三大供货商市占率算计76.5%。依据中国国际招标网数据计算的去胶设备竞赛格式,屹唐半导体公司占81%,而进口品牌Lam Research、DNS顺次占18%、2%。屹唐半导体在部分晶圆产线%;在单个晶圆产线,Lam Research占1/3。

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